杭州凯亚达半导体材料有限公司

公司12年来共研制开发出40余项半导体化合物材料：

碲系化合物：

碲化铜(CuTe)，碲化铟( InTe)，碲化锌(ZnTe)，P/N三碲化二铋(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2)...

硫系化合物：

三硫化二镓(Ga2S3)，二硫化锗(GeS2)，硫化锌(ZnS)，硫化锡(SnS)，三硫化二铟(In2S3)，硫化亚铜（Cu2S）...

无氧硒及硒系化合物:

三硒化二镓(Ga2Se3)，硒化亚铜(Cu2Se)，三硒化二铟(In2Se3)，硒化锌(ZnSe)，硒化铋(Bi2Se3)...

氯系化合物：

无水三氯化铟(InCl3)，无水三氯化镓(GaCl3)，无水氯化亚铟(InCl)...

氧系化合物：

4N-5N三氧化二镓(Ga2O3)，4N-5N氧化锌(ZnO)，5N-6N 三氧化二铟(In2O3)，5N 三氧化二铋(Bi2O3)，4N-5N 三氧化二锑（Sb2O3）...

铜铟镓硒（CIGS）系列材料.

靶材：氧化锌靶，氧化锌铝靶，铜铟镓硒靶，三硒化二铟靶，硒化亚铜靶材...

公司现有工艺及设备：

1，电解装置4套：回收电解铜，电解铅锌矿的阳极泥；高纯铟的电解，特别是除去里面的杂质锡。

2，真空蒸馏装置12套：根据杂质不同的饱和蒸气压，采用真空蒸馏的方法将其去除。

3，区域熔炼炉10套。

4，单间提拉炉12套。

5，CVD 化学气相沉积设备3套。

6，PVD装置2套。

7，真空熔炼炉15套。

8，THM 移动式加热设备。

9，氯化炉3套（高纯锑专用），氢化还原炉3套。

公司现有的检测设备：

1，ICP-MS;ICP-OES (适用范围：检测<99.999% 纯度的产品）

2，XRD （化合物的相结构分析）

3，激光粒度分析仪（粉末粒径）

4，对于99.9999%以上的产品，提供GDMS 外检指标（送EAG外检）